大阪市立大学 研究者要覧


福田 常男(フクダ ツネオ)FUKUDA Tsuneo

  • 所属研究科・専攻:工学研究科 電子情報系専攻(電子・物理工学) 職名:准教授
更新日:2017/03/31

プロフィール

主な取得学位

  • 工学博士

主な専門分野

  • 表面界面物性

現在の研究概要

  • 半導体の表面構造と電子状態を制御し、新奇な機能を有した電子デバイスを提案する。
    特に超高真空走査型トンネル顕微鏡を利用して原子レベルでのミクロな観点から研究を行っている。

主な経歴

取得学位

  • 工学博士

学歴

  • 東京大学 工学系研究科 物理工学専攻
  • 東京理科大学 理学部 応用物理学科

職歴

  • 1990-2001年 日本電信電話(株)

大阪市立大学経歴

  • 2001年 助教授

現在の主な研究課題

現在の専門分野

  • 表面界面物性

現在の研究課題

  • 課題名:表面構造制御とデバイス応用の研究
    研究分野:電子デバイス・機器工学、応用物性・結晶工学
    キーワード:表面、制御、機能デバイス

現在の研究概要

  • 半導体の表面構造と電子状態を制御し、新奇な機能を有した電子デバイスを提案する。
    特に超高真空走査型トンネル顕微鏡を利用して原子レベルでのミクロな観点から研究を行っている。

主要な研究業績

著書・論文

  • Stranski–Krastanow growth of copper overlayers on the Ni(110) surface
    種別:論文
    単著・共著別:共著
    出版年月:2012年09月
    出版社:Surface Science
    巻/号、頁:606巻1221-1226頁
  • 「わかりやすい真空技術(第3版)」
    種別:著書
    単著・共著別:共著
    出版年月:2010年05月
    出版社:日刊工業新聞社
    共著者名:(真空技術基礎講習会運営委員会)
  • Initial surface silicidation on Ni(110)
    種別:論文
    単著・共著別:共著
    出版年月:2017年05月
    出版社:Elsevier, Surface Science
    巻/号、頁:659巻1-4頁
    ISSN:0039-6028
  • 低真空・中真空技術の基礎と応用
    種別:解説
    単著・共著別:単著
    出版年月:2015年09月
    出版社:真空
    巻/号、頁:58巻9号325-329頁
    ISSN:18822398
  • First principles study of Cu-embedded Ni(110) surfaces
    種別:論文
    単著・共著別:共著
    出版年月:2009年11月
    出版社:e-Journal of Surface Science and Nanotechnology
    巻/号、頁:7巻681-687頁
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  • Stranski–Krastanow growth of copper overlayers on the Ni(110) surface
    種別:論文
    単著・共著別:共著
    出版年月:2012年09月
    出版社:Surface Science
    巻/号、頁:606巻1221-1226頁
  • 「わかりやすい真空技術(第3版)」
    種別:著書
    単著・共著別:共著
    出版年月:2010年05月
    出版社:日刊工業新聞社
    共著者名:(真空技術基礎講習会運営委員会)
  • Initial surface silicidation on Ni(110)
    種別:論文
    単著・共著別:共著
    出版年月:2017年05月
    出版社:Elsevier, Surface Science
    巻/号、頁:659巻1-4頁
    ISSN:0039-6028
  • 低真空・中真空技術の基礎と応用
    種別:解説
    単著・共著別:単著
    出版年月:2015年09月
    出版社:真空
    巻/号、頁:58巻9号325-329頁
    ISSN:18822398
  • First principles study of Cu-embedded Ni(110) surfaces
    種別:論文
    単著・共著別:共著
    出版年月:2009年11月
    出版社:e-Journal of Surface Science and Nanotechnology
    巻/号、頁:7巻681-687頁

学会活動

所属学会

  • 学会名:応用物理学会
  • 学会名:日本物理学会
  • 学会名:日本表面科学会
  • 学会名:日本真空学会

教育活動

担当教育の概要

  • 学部では「電子・物理工学実験Ⅱ」の計測技術を担当しています。 大学院では「真空工学特論」の講義をしています。産業界で広く用いられている「真空技術」を物理学的基礎から実用レベルまで、段階を追って講義します。また、特別演習(電子物理工学Ⅱ)では、前期博士課程の学生のゼミを担当しています。

担当講義

  • 担当年度:2016年
    授業科目名:特別演習(電子物理工学Ⅱ)
    講義区分:専門
  • 担当年度:2016年
    授業科目名:真空工学特論
    講義区分:専門
  • 担当年度:2016年
    授業科目名:電子・物理工学実験Ⅱ
    講義区分:専門
  • 担当年度:2015年
    授業科目名:電子・物理工学実験Ⅱ
    講義区分:専門
  • 担当年度:2015年
    授業科目名:工業数学Ⅲ演習
    講義区分:専門
  • 担当年度:2015年
    授業科目名:工業数学Ⅱ演習
    講義区分:専門
  • 担当年度:2014年
    授業科目名:真空工学特論
    講義区分:大学院
  • 担当年度:2014年
    授業科目名:電子・物理工学実験Ⅱ
    講義区分:専門
  • 担当年度:2014年
    授業科目名:工業数学Ⅲ演習
    講義区分:専門
  • 担当年度:2014年
    授業科目名:工業数学Ⅱ演習
    講義区分:専門

産学官連携可能情報

専門分野

  • 表面界面物性

所属研究部門

  • 工学研究科 電子情報系専攻(電子・物理工学)

交流可能研究テーマ

  • 真空技術と半導体薄膜成長技術
    研究テーマの分野:応用物理学・工学基礎

現在の研究課題

  • 課題名:表面構造制御とデバイス応用の研究
    研究分野:電子デバイス・機器工学、応用物性・結晶工学
    キーワード:表面、制御、機能デバイス

電子メールアドレス

  • tfukuda@a-phys.eng.osaka-cu.ac.jp

交流研究テーマ情報

交流可能研究テーマ

  • 真空技術と半導体薄膜成長技術
    研究テーマの分野:応用物理学・工学基礎
    研究テーマの概要:産業界で広いニーズがあると思われる真空関連の技術提供。特に半導体薄膜成長法やその評価技術についての研究開発の交流が可能である。
    交流可能な時期・期間:2001-
    交流の種別:技術相談、受託研究、共同研究
    知識・技術の活用分野・応用方法等:表面コーティングによる保護膜形成や薄膜トランジスタ、分子線エピタキシー技術を用いた半導体デバイスなど
    中核となる知識・技術・情報等:原子レベルでの表面観察技術および結晶成長技術
    キーワード:走査型トンネル顕微鏡、超高真空
    交流に関するコメント:表面コーティングによる高付加価値化の共同研究を希望。
    共同研究の希望:産学連携等、民間を含む他機関との共同研究を希望する

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